- 化合物半导体器件
- 吕红亮 张玉明 张义门编著
- 1330字
- 2020-08-28 09:51:17
主要参数符号表
A* 有效理查逊常数
a 晶格常数
B 磁感应强度
B 晶体管基极
C 电容
C 晶体管集电极
Cgd MESFET漏栅之间的肖特基结势垒电容
Cgs MESFET源栅之间的肖特基结势垒电容
D (1)电位移;(2)双极扩散系数
D 场效应晶体管漏极
E (1)电子能量;(2)电场强度
E 晶体管发射极
EA 受主能级
Ec 导带底能量
ΔEc 异质界面导带突变量
ED 施主能级
EF 费米能级
EFm 金属一侧费米能级
EFs 半导体一侧费米能级
Eg 禁带宽度
Ei (1)本征费米能级;(2)禁带中部位置
Ev 价带顶能量
ΔEv 异质界面导带突变量
E0 真空电子静止能量
Fmin 最小噪声系数
fT 特征频率
fmax 最大振荡频率
G (1)载流子净产生率;(2)光电导增益因子
G 场效应晶体管栅极
g (1)基态简并度;(2)激光增益系数
g(E) 状态密度
gm 跨导
H 磁场强度
h 普朗克常数
h/2π
I (1)电流;(2)发光强度
IB 晶体管基极电流
IC 晶体管集电极电流
ID 漏极电流
IDsat 漏极饱和电流
IE 晶体管发射极电流
IF 正向电流
IL 光生电流
Ip 峰值电流
IR 反向电流
Ir 复合电流
Is 反向饱和电流
Iv 谷值电流
J 电流密度
JF 正向电流密度
Jn 电子电流密度
Jp 空穴电流密度
JR 反向电流密度
Jr 复合电流密度
Js 反向饱和电流密度
k (1)波矢量;(2)玻耳兹曼常数
LD 德拜长度
Ln 电子扩散长度
Lp 空穴扩散长度
l 平均自由程
m0 电子惯性质量
m* 有效质量
电子有效质量
空穴有效质量
NA 受主浓度
Nc 导带有效态密度
ND 施主浓度
Nv 价带有效态密度
NSS 异质界面悬挂键数目
n (1)电子浓度;(2)折射率;(3)理想因子
n0 平均电子浓度
Δn 非平衡电子浓度
nD 中性施主浓度
ni 本征载流子浓度
np p型电子浓度
np0 p型平衡电子浓度
ns 表面载流子浓度
Po 光学波散射概率
Ps 晶格散射概率
p (1)空穴浓度;(2)动量
p0 平衡空穴浓度
Δp 非平衡空穴浓度
pA 中性受主浓度
pn0 n型平衡空穴浓度
pp p型空穴浓度
pp0 p型平衡空穴浓度
Q (1)光生载流子产生率;(2)电荷面密度
QS 表面电荷面密度
q 电子电量
qVD 势垒高度
qφB 金半接触中金属一侧的势垒高度
R (1)电阻;(2)反射系数;(3)符合率
Rds MESFET跨接在漏和源之间的微分电阻
Ri MESFET等效沟道电阻
s (1)截面积;(2)表面复合速度
S 场效应晶体管栅极
T (1)温度;(2)透射概率
t 时间
U (1)非平衡载流子复合率;(2)单向化增益
V (1)电压;(2)电势
VBR 击穿电压
VD 内建电势差
VDsat 场效应晶体管饱和漏电压
Vs 表面势
Vp 夹断电压
VT 阈值电压
vsat 饱和漂移速度
vth 电子热运动速度
W 功函数
WB 基区宽度
WE 发射区宽度
Wm 金属功函数
Ws 半导体功函数
xj pn结结深
xd 耗尽区宽度
α (1)吸收系数;(2)晶体管基区输运系数
β (1)压缩系数;(2)晶体管放大系数
γ (1)注入比;(2)晶体管发射结注入效率
δ E c-EF,或EF-Ev
ε 介电常数
εs 半导体相对介电常数
ε0 真空介电常数
μ 迁移率
μ0 低场迁移率
μI 杂质散射所造成的迁移率
μL 晶格散射所造成的迁移率
μn 电子迁移率
μp 空穴迁移率
ρ (1)电阻率;(2)电荷体密度
ρi 本征电阻率
ρn n型电阻率
ρp p型电阻率
σ (1)电导率;(2)俘获截面
σi 本征电导率
σn n型电导率
σp p型电导率
τ (1)平均自由时间;(2)寿命
τb 晶体管基区少子渡越时间
τc 晶体管集电结电容充电时间
τd 晶体管集电结耗尽层渡越时间
τe 晶体管发射结电容充电时间
τec 晶体管延迟时间
τn 电子寿命
τp 空穴寿命
η 效率
λ (1)波长;(2)沟道调制系数
χ 电子亲和能
ω 角频率
ψ(x) 波函数
φ(x) 功函数