第116章 改造方案

郭一连续好几天都在A1厂出没，寻找这可以提升芯片制造工艺的关键点。

材料热膨胀相互的影响，光的衍射对于光刻的影响，线宽控制的几个常规改进，光学近距效应修正，硅片平台水平控制的关键因素，光刻胶涂胶...